Dưa chua, lân hóa và xà phòng hóa là gì

Phương pháp tẩy rỉ sét và cặn là phương pháp được sử dụng rộng rãi nhất trong lĩnh vực công nghiệp.Mục đích loại bỏ rỉ sét và cặn oxit đạt được nhờ tác dụng loại bỏ cơ học của axit đối với sự hòa tan và ăn mòn oxit để tạo ra khí hydro.Những chất phổ biến nhất được sử dụng trong tẩy chua là axit clohydric, axit sulfuric và axit photphoric.Axit nitric hiếm khi được sử dụng vì nó tạo ra khí nitơ dioxide độc ​​hại trong quá trình tẩy chua.Tẩy axit clohydric thích hợp để sử dụng ở nhiệt độ thấp, không được vượt quá 45oC, cũng nên thêm một lượng chất ức chế sương mù axit thích hợp.Tốc độ tẩy axit sunfuric ở nhiệt độ thấp rất chậm, thích hợp sử dụng ở nhiệt độ trung bình, nhiệt độ 50 – 80oC, sử dụng nồng độ 10% – 25%.Ưu điểm của việc tẩy axit photphoric là không tạo ra cặn ăn mòn, an toàn hơn, nhưng nhược điểm của axit photphoric là chi phí cao hơn, tốc độ tẩy chậm hơn, nồng độ sử dụng chung là 10% đến 40% và nhiệt độ xử lý có thể cao hơn. nhiệt độ bình thường đến 80oC.Trong quá trình tẩy chua, việc sử dụng axit hỗn hợp cũng là một phương pháp rất hiệu quả, chẳng hạn như axit hỗn hợp axit clohydric-axit sunfuric, axit hỗn hợp axit photphoric-axit citric.

Dây chuyền ngâm chua do Wuxi T-control thiết kế hoàn toàn khép kín và tự động.Quá trình sản xuất được thực hiện trong bể kín và cách ly với thế giới bên ngoài;sương mù axit được tạo ra được tháp phun sương axit chiết xuất để xử lý thanh lọc;quy trình sản xuất được cách ly khỏi ảnh hưởng đến sức khỏe của người vận hành;điều khiển tự động, hiệu quả sản xuất cao, sản lượng lớn, đặc biệt phù hợp với sản lượng lớn, sản xuất tập trung;máy tính tự động điều khiển các thông số quy trình, quy trình sản xuất ổn định;so với dây chuyền sản xuất photphat tẩy chua trước đây, hiệu suất được cải thiện đáng kể mà còn cực kỳ giúp giảm ô nhiễm môi trường.